Usaha agresif Samsung dalam pembuatan semikonduktor termaju menghadapi cabaran besar apabila laporan terkini mendedahkan kadar hasil yang mengecewakan bagi teknologi proses 3nm Gate-All-Around (GAA). Walaupun menjadi yang pertama di pasaran dengan teknologi canggih ini, gergasi teknologi Korea ini menghadapi kesukaran untuk mencapai sasaran pengeluaran, yang mungkin memberi kesan kepada daya saing dalam perniagaan foundri yang kompetitif.
Prestasi Hasil Semasa
Proses generasi pertama 3nm GAA Samsung, yang dikenali sebagai SF3E-3GAE, telah berjaya mencapai kadar hasil antara 50-60%. Walaupun ini menunjukkan peningkatan ketara dalam kecekapan pengeluaran, ia masih tidak mencapai sasaran awal 70%. Yang lebih membimbangkan ialah prestasi proses generasi kedua, yang hanya mencapai kadar hasil 20% - kurang daripada satu pertiga daripada matlamat yang disasarkan.
Kesan Terhadap Hubungan Pelanggan
Kadar hasil yang tidak optimum ini telah mula memberi kesan kepada hubungan perniagaan Samsung. Pemain industri terkemuka, Qualcomm, telah memilih untuk mengeluarkan Snapdragon 8 Elite secara eksklusif dengan proses 3nm N3E TSMC, mengelak tawaran Samsung. Malah syarikat-syarikat Korea Selatan tempatan, yang secara tradisinya setia kepada Samsung, telah mula mengalihkan pesanan mereka kepada nod proses TSMC yang lebih matang.
Peralihan Strategik ke Pembangunan 2nm
Sebagai tindak balas kepada cabaran ini, Samsung kelihatan sedang mengarahkan semula sumber-sumbernya ke arah nod teknologi masa depan. Syarikat ini dilaporkan sedang membangunkan cip Exynos baharu berkod 'Ulysses' menggunakan teknologi proses 2nm (SF2P) yang akan datang. Cip ini dijangka akan diperkenalkan dalam siri Galaxy S27, yang dijadualkan untuk dilancarkan pada 2027, menunjukkan strategi jangka panjang untuk mengatasi halangan teknologi semasa.
Sekilas pandang masa depan Samsung: Cip Exynos mewakili peralihan strategik syarikat untuk mengatasi cabaran semasa |
Implikasi Industri
Kesukaran dengan hasil 3nm menimbulkan persoalan penting tentang keupayaan Samsung untuk bersaing secara berkesan dalam ruang pembuatan semikonduktor termaju. Walaupun syarikat ini mengekalkan kedudukannya sebagai perintis dalam memperkenalkan nod proses baharu, pelaksanaan praktikal dan pengkomersialan teknologi ini kekal menjadi cabaran yang perlu diatasi.